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噴塑設(shè)備技術(shù)要求:粉末帶電

噴塑設(shè)備技術(shù)要求:粉末帶電

通過電場(chǎng)里的未帶電的粉粒會(huì)改變外電場(chǎng)的形狀。電力線在粉粒表面以90度角進(jìn)入并穿越,以90度角穿出。從圖2中可看出粉粒周圍的電力線形狀發(fā)生了變化,如果電場(chǎng)中存在自由離子的話,這些離子便會(huì)沿變化了的電力線方向運(yùn)動(dòng),并被粉粒所捕獲,使粉粒帶上了電。

噴塑設(shè)備技術(shù)要求:

這一帶電過程將繼續(xù)下去,直至粉粒捕獲了多個(gè)離子,使粉粒積聚的電荷越來越多,并產(chǎn)生了粉粒本身的云團(tuán)電場(chǎng),這一電場(chǎng)又再次改變外電場(chǎng)的形狀,不過不同的是,這次外電力線是被從粉粒出推開。出現(xiàn)這一情況后,來自外電場(chǎng)的自由離子便無法再到達(dá)粉粒處,因?yàn)榉哿1旧淼碾妶?chǎng)會(huì)排斥它們。換言之,這時(shí)粉粒已在給定的外電場(chǎng)強(qiáng)度,粉粒粒徑和材料的條件下達(dá)到了最大電荷量。

在靜電粉末噴涂過程中,從槍口噴出的粉末要通過一個(gè)強(qiáng)電場(chǎng)和自由離子密集區(qū),在通過這樣的區(qū)域時(shí),粉粒就如上所述地帶上了電。那么粉粒帶電的多少以及帶電的規(guī)律又受什么因素的制約呢?Pauthenier通過試驗(yàn)和研究回答了這個(gè)問題。著名的Pauthenier方程如下:

從式可知帶電過程主要受下列幾個(gè)因素的影響:

a)粉粒的粒徑r

b)電場(chǎng)強(qiáng)度E

c)粉粒在充電區(qū)逗留的時(shí)間t

通過實(shí)驗(yàn),Pauthenier還發(fā)現(xiàn)在粉粒噴出槍口后的前4毫秒時(shí)間內(nèi),可使粉粒帶上最高可能帶電量的65%。通常情況下,粉粒在噴出槍口的一瞬間速度往往低于5m/s,故可知在距噴槍極針20mm的范圍內(nèi),粉?;就瓿闪舜蟛糠謳щ娙蝿?wù),4毫秒之后充電效率就基本穩(wěn)定在充電曲線的平坦段上,這是由于槍尖處的電場(chǎng)強(qiáng)度遠(yuǎn)大于槍尖其他部分的電場(chǎng)強(qiáng)度所造成的。

帶電能力與r的平方成正比,這表明粉粒帶電強(qiáng)烈地受到粉粒自身的幾何尺寸的影響,這也是超細(xì)粉末(<20μm)不易帶電的原因。而這又恰恰是靜電粉末薄涂技術(shù)中需很好解決的重要問題之一。

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